|
|
Analysis of a-SiOC:H films by selected spectroscopic techniques
Ondreáš, František ; Zmeškal, Oldřich (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
This bachelor thesis deals with preparation of thin plasma polymer films on the basis of tetravinylsilane by plasma-enhanced chemical vapour deposition and film characterization by selected spectroscopic techniques. The theoretical part is a background research about plasma chemistry and spectroscopic methods of characterisation of thin plasma polymer films. The practical part consisted of preparation of two series of samples and their characterization. Prepared thin plasma polymer films were characterized by selected spectroscopic techniques. Thickness and optical constants were determined by spectroscopic elipsometry. Chemical structure was characterized by infrared spectroscopy. The results indicate the possibility of managing physico-chemical properties of thin plasma polymer films on the basis of tetravinylsilane by deposition conditions and thus possibility of preparation materials tailored to a variety of applications.
|
|
|
Infrared spectroscopy of thin films
Kiss, Andrej ; Čáslavský, Josef (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
The objective of this Bachelor thesis is a literary research in the fields of thin films, plasma enhanced chemical vapor deposition technique, and Fourier transform infrared spectroscopy in order to measure the infrared spectra of thin films and characterise its chemical structure based on the measured spectra. Five samples of plasma polymer films of tetravinylsilane, deposited on silicon wafers using plasma enhanced chemical vapor deposition with effective power ranging from 2 to 150 W were measured with Fourier transform infrared spectroscope. The measurement revealed the chemical bonds present in the five samples and how the structure changed with changing effective power. The decrease in the absorption bands with hydrogen presence suggest an increase of crosslinking with enhanced power. Also, the decrease in the band with silicon presence provides evidence for the increase of C/Si ratio. These results help us understand the characteristics of these thin films and contribute to the understanding the plasma enhanced chemical vapor deposition process.
|
|
|
Chemická struktura tenkých vrstev na bázi křemíku
Olivová, Lucie ; Franta, Daniel (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
Tato bakalářská práce se zabývá charakterizací a přípravou tenkých polymerních vrstev na křemíkové substráty metodou plazmochemické depozice z plynné fáze. Hlavní součástí práce je literární rešerše z oblasti plazmové polymerace a infračervené spektroskopie. V experimentální části byly připraveny tenké polymerní vrstvy na bázi tetravinylsilanu a tetravinylsilanu s přídavkem směsného plynu (argonu). Připravené tenké vrstvy plazmových polymerů byly charakterizovány pomocí vybrané spektroskopické techniky - infračervené spektroskopie. Na základě vyhodnocení transmisních infračervených spekter byla určena chemická struktura vytvořených polymerních vrstev. Stanovené chemické struktury připravených vrstev byly sledovány s ohledem na depoziční podmínky a tedy i na možnost přípravy materiálů na míru pro nejrůznější použití.
|
|
|
Infrared spectroscopy of thin films
Kiss, Andrej ; Čáslavský, Josef (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
The objective of this Bachelor thesis is a literary research in the fields of thin films, plasma enhanced chemical vapor deposition technique, and Fourier transform infrared spectroscopy in order to measure the infrared spectra of thin films and characterise its chemical structure based on the measured spectra. Five samples of plasma polymer films of tetravinylsilane, deposited on silicon wafers using plasma enhanced chemical vapor deposition with effective power ranging from 2 to 150 W were measured with Fourier transform infrared spectroscope. The measurement revealed the chemical bonds present in the five samples and how the structure changed with changing effective power. The decrease in the absorption bands with hydrogen presence suggest an increase of crosslinking with enhanced power. Also, the decrease in the band with silicon presence provides evidence for the increase of C/Si ratio. These results help us understand the characteristics of these thin films and contribute to the understanding the plasma enhanced chemical vapor deposition process.
|
|
|
Chemická struktura tenkých vrstev na bázi křemíku
Olivová, Lucie ; Franta, Daniel (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
Tato bakalářská práce se zabývá charakterizací a přípravou tenkých polymerních vrstev na křemíkové substráty metodou plazmochemické depozice z plynné fáze. Hlavní součástí práce je literární rešerše z oblasti plazmové polymerace a infračervené spektroskopie. V experimentální části byly připraveny tenké polymerní vrstvy na bázi tetravinylsilanu a tetravinylsilanu s přídavkem směsného plynu (argonu). Připravené tenké vrstvy plazmových polymerů byly charakterizovány pomocí vybrané spektroskopické techniky - infračervené spektroskopie. Na základě vyhodnocení transmisních infračervených spekter byla určena chemická struktura vytvořených polymerních vrstev. Stanovené chemické struktury připravených vrstev byly sledovány s ohledem na depoziční podmínky a tedy i na možnost přípravy materiálů na míru pro nejrůznější použití.
|
|
|
Analysis of a-SiOC:H films by selected spectroscopic techniques
Ondreáš, František ; Zmeškal, Oldřich (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
This bachelor thesis deals with preparation of thin plasma polymer films on the basis of tetravinylsilane by plasma-enhanced chemical vapour deposition and film characterization by selected spectroscopic techniques. The theoretical part is a background research about plasma chemistry and spectroscopic methods of characterisation of thin plasma polymer films. The practical part consisted of preparation of two series of samples and their characterization. Prepared thin plasma polymer films were characterized by selected spectroscopic techniques. Thickness and optical constants were determined by spectroscopic elipsometry. Chemical structure was characterized by infrared spectroscopy. The results indicate the possibility of managing physico-chemical properties of thin plasma polymer films on the basis of tetravinylsilane by deposition conditions and thus possibility of preparation materials tailored to a variety of applications.
|
host ::
RSS.